真空電鍍設(shè)備是利用在高度真空的條件進(jìn)行金屬加熱，使金屬起到融化或者蒸發(fā)的作用，并且對金屬物品中的表面形成金屬薄膜的作用。雖然真空電鍍設(shè)備的操作流程比較簡單，但是在工作中還需要遵循一定的條件和流程：
1、溫度要求：模溫在45-95攝氏度為宜(比非電鍍件高20攝氏度)。
2、采用較高的注塑溫度，這樣可以提高鍍層的附著力。
3、注塑壓力宜低，注塑速度宜慢，通常應(yīng)比非電鍍件的成型速度慢一倍。
4、原材料應(yīng)在80-90攝氏度下烘干4小時，否則殘留的水分將會在成型零件表面產(chǎn)生氣泡，流線紋而影響外觀。
5、不要使用膠模劑，否則會對鍍層的附著力產(chǎn)生很不利的影響，若脫模實在困難，也只能使用滑石粉或肥皂水作脫模劑。
真空蒸鍍鋁涂層在純金屬涂層的制備上，大都采用真空蒸發(fā)鍍法。而純金屬中鋁涂層，由于它用途廣泛，如制鏡工業(yè)中的以鋁代銀，集成電路中的鋁刻蝕導(dǎo)線；聚酸薄膜表面鍍鋁制作電容器；
滌綸聚酯薄膜鍍鋁的制作、防止紫外線照射的食品軟包裝；滌綸聚酯薄膜鍍鈷后再鍍鋁制作磁帶等。因此，今年來真空鍍鋁工業(yè)在國內(nèi)外不但發(fā)展迅速，而且，正向著濺射法、離子鍍法等鍍膜技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展。
真空蒸鍍鋁薄膜可選用間歇式蒸發(fā)鍍膜，也可選用半連續(xù)式真空鍍膜機(jī)。其蒸發(fā)源可為電阻源，電子束源，也可以選用感應(yīng)加熱式蒸發(fā)源，可依據(jù)蒸鍍膜材的具體要求而定。
真空蒸發(fā)鍍鋁涂層的工藝參數(shù)，主要包括蒸鍍室的壓力、沉積速率、基片溫度、蒸距等。如果從膜片基體上分布的均勻性上考慮，還應(yīng)注意蒸發(fā)源對基片的相對位置及工件架的運動狀態(tài)等方面因素。例如，選用電子束蒸發(fā)源進(jìn)行鋁涂層制備時，其典型的主要工藝參數(shù)可選用：鍍膜室工作壓力為2.6X10-4Pa、蒸發(fā)速率為2~2.5nm/s、基片溫度20℃、蒸距450nm、電子束槍電壓為9kV，電流為0.2A。
實驗表明：電子束蒸鍍法所得到的膜厚分散度較大，即均勻性較差。這也是近年來真空鍍鋁膜有向著濺射法和離子鍍法發(fā)展制備鋁膜的趨勢原因之一。
關(guān)鍵詞：真空電鍍設(shè)備
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