1.厚度上的均勻性：也能夠理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的標(biāo)準(zhǔn)上看（也即是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜機(jī)的均勻性現(xiàn)已相當(dāng)好，能夠輕松將粗糙度操控在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也即是說關(guān)于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何妨礙。
2.化學(xué)組分上的均勻性： 即是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于標(biāo)準(zhǔn)過小而很簡單的發(fā)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，假如鍍膜進(jìn)程不科學(xué)，那么實(shí)踐外表的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的份額，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技能含量地點(diǎn)。
3.晶格有序度的均勻性： 這決議了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技能中的熱點(diǎn)問題。
關(guān)鍵詞：真空鍍膜機(jī)
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