真空卷繞鍍膜設(shè)備的主要技術(shù)特征是:
其一,被鍍基材為柔性基材,即具有可卷繞性;
其二,鍍膜過程具有連續(xù)性,即在一個工作周期內(nèi)鍍膜是連續(xù)進行的;
其三,鍍膜過程始終在高真空環(huán)境中進行。
由以上特征可知:其基本結(jié)構(gòu)必須有卷繞傳動,有卷材(基材)的放卷和收卷。在放卷和收卷的過程中基材被鍍上薄膜。鍍膜部分就是真空卷繞鍍膜設(shè)備的工作部。它位于基材的收放卷之間。工作部的工作原理可以是前述的電阻蒸發(fā)、感應(yīng)蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射或者其它真空鍍膜方法中的任一種。
要維持工作周期內(nèi)鍍膜過程的連續(xù)性,就要求鍍材(沉積材料)足夠多。在蒸發(fā)卷繞鍍中就要求有足夠大的坩堝,或者有連續(xù)的送料機構(gòu);在磁控濺射中要求有足夠大的靶材。要有一個真空的環(huán)境,以上裝置需置于一個密封的真空容器中,并有一套真空機組,以維持工作周期內(nèi)真空度的穩(wěn)定性。
這樣,一臺典型的真空卷繞鍍膜設(shè)備就初具雛形了。當(dāng)然,在卷繞系統(tǒng)中為保證膜層的均勻性,要做到卷繞系統(tǒng)線速度的恒定;為保證基材的平整度和收卷不跑偏,要做到卷繞系統(tǒng)基材張力的恒定,并要有基材展平裝置。在鍍膜部分須有擋板和水冷裝置,在連續(xù)送蒸鍍材料的機構(gòu)中,送料速度必須實現(xiàn)恒定并可調(diào).
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