現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚的測量及監(jiān)控方法
    
  最直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
  此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。
  光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿_地控制膜層厚度(如果運(yùn)用得當(dāng))。精確度的改進(jìn)源于很多因素,但最根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。
  OPTIMAL SWA-I-05單波長光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測控，結(jié)合汪博士開發(fā)的先進(jìn)光學(xué)監(jiān)控軟件，有效提高光學(xué)反應(yīng)對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測波長。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。

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