真空鍍膜設(shè)備選購要點(diǎn)分析如下：
1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。
2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。
3、夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。
4、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門、管道等組成。
5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動(dòng)、電動(dòng)的引弧等），真空測量可選擇數(shù)字式智能真空計(jì)及其優(yōu)質(zhì)的測量規(guī)管，及其它測量儀器，如自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計(jì)等。
6、充氣方式可選用質(zhì)量流量計(jì)、浮子流量計(jì) + 針閥及相應(yīng)的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。
7、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測量。
8、根據(jù)設(shè)備使用特點(diǎn)，可選擇手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)或其組合的控制方式。
9、完善的報(bào)警系統(tǒng)，對真空室體、擴(kuò)散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過壓、過流等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警。
關(guān)鍵詞：真空鍍膜設(shè)備
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